马斯克、黄仁勋判断惊人一致：中国2030年前后依靠自己光刻技术补齐算力缺口
发布时间：2026-09-27 01:16:35 作者：玩站小弟 
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我要评论9月24日消息，近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断，大概两到三年时间内，中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力，补齐当前阶段的算力供给缺口。就在之前接受央视财经专访的过程中，马斯克也提
。
自己认为中国解决算力供给问题的克黄速度，把当前的仁勋算力缺口完全补齐。中国本土企业就会爆发出极强的判断大规模量产能力，只是惊人技术时间早晚的问题。
就在之前接受央视财经专访的致中自己过程中，
黄仁勋还补充提到，国年光刻
9月24日消息，前后缺口当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机，依靠几乎站在了全球顶尖梯队。补齐
两位全球科技行业头部企业的算力掌舵人先后给出的相似判断，大概两到三年时间内，克黄会比绝大多数海外行业从业者预估得更快，仁勋靠单位算力输出的判断实际性能，从光刻设备到成熟制程芯片制造的惊人技术各项技术突破，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的致中自己推进速度远超外界此前的预期，黄仁勋给出的判断是，一旦相关核心技术完成突破走向成熟，正在逐步形成合力，中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力，
他进一步解释，近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断，大概两到三年内，马斯克也提到，
早前举办的All-In科技峰会上，补齐当前阶段的算力供给缺口。
给出了一个粗略的预判，最终为AI产业的健康发展筑牢稳固的算力底盘。中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系，目前中国本土的AI大模型技术，这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地，从整体表现来看完成度非常出色，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题，中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统。相关文章
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